二手 ADE / KLA / TENCOR 351 #293605066 待售

ADE/KLA/TENCOR 351蒙版和晶片檢查設備是一種高度先進的光學檢查系統,用於檢查晶片和蒙版是否存在缺陷、汙染或工藝變化。由ADE開發的ADE 351單元是半導體制造商確保其微芯片制造過程的產品質量和一致性的有力工具。該機器結合了先進的成像、高速模式識別和復雜的缺陷分類算法來分析整個晶圓區域或分辨率較高的子場,以識別可能存在的任何缺陷。它采用自動化的閉環工具，在晶圓的整個表面上以高分辨率（高達20X1200 mag）檢查圖樣和圖像。高級圖像處理用於檢測顆粒、劃痕、圖樣不連續性和其他物理缺陷以及過程變化。然後自動掃描晶片,並在將缺陷和模式呈現給操作員之前對其進行識別。KLA 351資產具備自動視覺和模式識別功能,可以檢查密密麻麻的板材,最小化誤報,優化吞吐量和產量。自動顏色選擇可確保最復雜的蒙版具有最高的精度和準確性。該模型還支持在裝運前對所有受控參數進行掩碼級驗證和驗證。針對半導體制造商高度敏感的需求，TENCOR 351設備還支持先進的汙染監測模塊，以檢測並立即提醒操作員註意任何異常值。反過來，這有助於一旦發現可能的汙染問題，確保及時采取糾正措施。此外,相機的分辨率超過1微米,導致前所未有的清晰度。351系統提供了廣泛的缺陷檢測功能,包括缺陷表征和缺陷大小掃描。階梯式高架掃描體系結構提供了一致的高分辨率圖像,能夠快速識別否則很難檢測到的表面缺陷。內置缺陷庫允許設備快速識別缺陷模式並在發現缺陷時對其進行標記。ADE/KLA/TENCOR 351 Mask&Wafer檢驗機為半導體制造商提供了一種通用、堅固、可靠的工具,保證其工藝能夠無故障地產生最高的質量和產量。ADE 351專為高吞吐量和低成本而設計,提供卓越的質量數據,可用於過程優化和提高產品產量。