二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Complus 4T #9298594 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 4T Mask and Wafer Inspection Equipment是一種用途廣泛、緊湊的系統，將mask和Wafer inspection的任務高效地結合在一起。這個單元是專門針對半導體行業的需求量身定制的，提供高吞吐量和成本效率以及無與倫比的圖像分辨率。它提供了一套用於掩模和晶片檢查以及審查和數據分析的集成技術。AMAT Complus 4T提供了先進的掩模檢查能力，包括分辨率增強技術（RET）和光學散射測量（OS）。RET是一種用於測量衍射對掩模圖樣影響的技術，而OS則測量由掩模圖樣中的特征引起的二次電子失真。這兩項技術相結合,使APPLIED MATERIALS Complus 4T能夠提供超過競爭的檢查系統的詳細程度,從而在掩模圖像中實現高水平的不透明度和銳度。對於晶圓檢查，Complus 4T提供了一系列創新工具，包括投影實地檢查（PFI）和彩色圖像分析（CIA）。PFI是一種低成本、快速周轉的檢查符合要求的光掩碼特性的方法。它提供了廣泛特征的詳細測量，並使用多種算法比較來自多個字段的圖像。CIA將光散射測量（OS）與數字成像處理（DIP）相結合，以實現晶圓上任何圖樣的高分辨率成像。它還允許檢測光學汙染物，從而能夠可靠地檢測高產量生產的顆粒或顆粒。AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 4T還提供可靠的審查工具，包括自動模式檢測（APD）模塊。APD模塊自動檢測掩碼和晶圓圖像上的關鍵缺陷,並提供高精度測量。它對於檢測當前檢查方法可能遺漏的特征特別有用,例如線端斷點和難以表征的邊。最後，該機還附帶了數據分析和報告的綜合軟件。這包括一個集成的導出工具,允許客戶向其他系統或其他郵件客戶端發送報告。綜上所述,AMAT Complus 4T掩模和晶片檢查工具提供了無與倫比的圖像分辨率和一套集成技術,用於掩模和晶片檢查以及審查和數據分析。此資產確保客戶的制造過程符合法規標準,並具有前所未有的詳細程度和準確性,使其成為經濟高效的半導體生產必不可少的工具。