二手 AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G2 Plus #9280524 待售

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ID: 9280524
晶圓大小: 12"
優質的: 2002
Defect review system, 12" Wafer handling: Loader: AMAT ADO with RFID ETU, 12" ITU, 12" FFU with ULPA Filter SEM Column G2 EDX Column Column tilts: 45 Deg Wafer rotation option Stage wafer holder: 3 PIN Aligner optical microscope 5x, 20x, 100x Pal (On the OTW, cassette / Slot 1: Delta X= 500 μm, Delta Y= 500 μm ITU Repeatability: Delta X and Delta Y < 20 μm Stage accuracy: Delta X and Delta Y < 1.5 μm MTR: Delta X: 50 Delta Y: 30 μm Resolution at 1 KeV: 3 nm Focus map / focus offset: 90% defect with Delta Z < 3 μms Automatic defect offset / XY Map: 95% defects with Delta X < 1.5 μm and Delta Y < 1.5 μm EDX resolution: 4 nm Wafer throughput: 12 Wafers / Hours Defects throughput >1000 Defects / Hour Cleanliness front side: 0.013 PWP / cm² > size at 0.2 μm Largest load ampere rating: 8 A Full load current: 10 A Interrupt current: 10,000 Amps Power requirements: 1-120 VAC, Single Phase, 3 Wire 208 V, 3 Phase, 5 Wire, 50/60 Hz 2002 vintage.
AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G2 Plus mask&wafer inspection equipment is a advanced, automated optical inspection (AOI) system designed for semiconduct and display device manistrices.該單元由雙激光晶片掃描儀、先進的圖像捕獲和模式識別算法以及數字特征測量能力組成。AMAT SemVision G2 Plus機器提供卓越的性能,可用於自動光掩碼缺陷檢測、掩碼布局驗證和晶圓級缺陷審查,從而實現更快的工藝速度和更高的精度。G2 Plus掩模和晶圓檢測工具具有兩個高功率激光源,可創建明亮、均勻、均勻分布的光源。與單激光器系統相比,雙激光器技術提供了更好的性能,並確保了掩模表面的快速準確成像,並減少了錯誤缺陷檢測。先進的成像技術以像素級分辨率捕獲全部和部分圖樣信息,提供卓越的邊緣檢測和亮度平衡,並提高整個掩模區域的缺陷靈敏度。APPLICED MATERIALS SemVision G2 Plus資產還具有廣泛的先進模式識別技術,包括衍射光學元件(DOE)和使用共面差分成像(CDI)的缺陷檢測。內置的檢驗模板庫為用戶提供了測試類似掩模和晶片的標準模型,因此檢驗結果一致且可重現。該模型還可以通過添加定制的光學元件來增強,例如LED或連續波激光器,以及更高的功率水平來改進缺陷分析。SemVision G2 Plus設備改進了多種設備體系結構的可檢驗性,包括翻轉芯片、BGA、晶圓級芯片規模和扇入/扇出封裝。它的用戶友好界面允許直觀操作,並通過屏幕顯示實時檢測和分析缺陷。G2 Plus系統利用其優化的算法和先進的測量能力,有助於提高生產率和提高質量保證,從而獲得最大的產量。
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