二手 ASM IBE 139 #9396619 待售

ASM IBE 139掩模和晶片檢驗設備是一種先進的工具,旨在使半導體制造商能夠快速準確地檢測和識別其產品中的缺陷。該系統專門的光學和電子顯微鏡技術允許在肉眼看不見的水平上觀察幾何細節，獨特的基於圖像的缺陷識別任務使得能夠快速自動檢測光掩模和晶片中的缺陷。該單元由光學成像階段和電子成像階段兩個主要組成部分組成。光學成像階段使用數碼相機提供照明、成像和檢測功能。它能夠將光學特性放大到1000倍,從而實現識別缺陷所需的高分辨率成像。此外，光學成像階段還配備了具有單色CCD功能的全彩色數碼相機傳感器。這使機器能夠快速準確地捕獲彩色和單色圖像。電子成像階段由一個創新的電子束檢測工具（EBIS）和一個掃描電子顯微鏡（SEM）以及相關的元件組成。EBIS用於捕獲缺陷圖像並生成用於缺陷識別的顯微照片。它配備了電子束掃描（EBS）資產和全自動缺陷分類過程。該模型能夠從極小的區域獲取圖像，測量小到幾納米，允許精確檢測甚至最小的缺陷。另一方面,SEM提供放大倍數可達50,000倍的電子光學圖像。它配備了自動缺陷識別設備,能夠識別從表面和地下特征到線路方向誤差和開放/短缺陷的各種缺陷。再者，ASM IBE139 Mask和晶圓檢查系統也與一系列數據分析軟件程序兼容，如知名的ImageJ。這使用戶能夠快速、輕松地組合光學和電子成像階段的圖像,並將其存儲在數據庫中以供將來訪問和分析。ASM還提供了一個常見基材及其相應光學參數的在線數據庫，使用戶可以很容易地為每個樣品確定合適的設置。IBE 139掩模和晶片檢查組是一個高效和可靠的工具，旨在便於檢測和分析半導體產品中的缺陷。其高分辨率成像功能和自動化缺陷識別系統使用戶能夠快速準確地識別和分類缺陷。此外,它與第三方軟件程序的兼容性,以及其廣泛的底物數據庫,使其成為任何半導體制造商的寶貴資產。