二手 ASML / HMI EP3 #293605104 待售

ASML/HMI EP3是一種自動掩模和晶片檢查設備，設計用於識別、測量和糾正半導體光刻中使用的單個掩模或晶片上的缺陷。該系統將掃描電子顯微鏡（SEM）成像與先進的模式保真度算法和缺陷檢測技術相結合，對模式特征和性能進行自動評估。HMI EP3單元具有200kV電子束發生器,具有連接的二次電子和反向散射探測器。它能夠收集分辨率高達2nm/pixel的圖像,並且具有從0.5到4 mm的視野。它還包括一系列軟件解決方案,以擴展機器的成像能力,從而能夠測量關鍵尺寸、圖案幾何形狀、間距值,並對掩模和晶圓圖像進行定量分析。這些軟件工具允許精確的缺陷量化和識別,包括區分缺陷和背景特征的能力。ASML EP3工具還具有三維特征計量功能,允許快速精確的尺寸測量,分辨率可降至50 nm。這是使用多個視圖來重建復雜的三維特征的獨立圖像,從而允許客戶從單個圖像捕獲中測量其晶圓堆棧。EP3資產包括各種識別、量化和糾正缺陷的方法。這些方法包括用於缺陷識別和可視化預期模式與實際模式之間差異的自動模式識別算法。此模型還提供了基於物理的模擬工具,使客戶能夠了解其過程流程並優化以提高產品性能。最後,ASML/HMI EP3提供了用於分析掩碼和晶圓圖像以及進行校正以提高其性能的工具。這包括用於掩碼和晶片修復的直接寫入技術,以及用於修改圖像和模式的掩碼和晶片編輯軟件。HMI EP3提供了一種集成的方法來進行缺陷分析和晶圓/掩碼校正,幫助客戶降低成本和周期時間,同時保持或改善性能。