二手 CARL ZEISS / HSEB MIT300 #293639397 待售

CARL ZEISS/HSEB MIT300 Mask&Wafer Inspection Equipment是專門為缺陷檢測而設計的最先進的系統。使用快速掃描的光學自適應單元，HSEB MIT300能夠檢測到即使是最微小的缺陷與無與倫比的精度和平坦度比較。這臺機器包含一個1600萬像素的磁頭,它可以捕捉以每秒5000幀的最大幀速率拍攝的鏡頭,因此非常適合高速掃描應用。相機還包含8.3 µm的像素大小和72 dB的動態範圍。此外，該工具能夠提供內部光刻和叠加測量，提供最高水平的晶圓生產均勻性測量。該資產還包括一個4英寸的專有光學模型，該模型由具有全幀視野的行星相位光學元件組成。該設備還配備了先進的圖像分析算法，能夠對掩模和晶片缺陷進行可靠、快速的檢測。它還具有一個集成的X/Y級系統，以便在掃描領域快速、方便地定位和檢查晶片。此外,其堅固的機械化階段使設備不易受到來自外部來源的環境振動的影響,因此與市場上的其他系統相比,掃描的準確性更高。為了確保最高的生產率，該機采用了直觀的圖形用戶界面軟件，該軟件根據掩碼和晶圓檢查的具體需要量身定制。軟件附帶了一系列內置缺陷分析和審核工具，如DICE圖像增強、Sub-Micron叠加測量、可自定義的通過或失敗分類極限路徑等等。此外,它還提供實時晶片分析和缺陷檢測功能,包括缺陷自動識別、算法缺陷檢測和錯誤缺陷識別。該工具符合ISO和SEMI標準,允許輕柔地處理晶片和掩模。資產也以環保的方式運作，電力要求低。它提供了多種選項和硬件,如ASML和193i掃描系統的光學頭、可選的自動報告歸檔、定制軟件解決方案等等。總體而言,CARL ZEISS MIT300 Mask&Wafer Inspection Model是一種高端設備,具有最先進的檢測能力。其先進的光學系統、內置軟件和眾多附加選項使其成為滿足當今缺陷檢測要求的理想選擇。