二手 DATAPHYSICS OCA 40 #293607248 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
DATAPHYSICS OCA 40 Mask&Wafer Inspection Equipment是為精確計量Mask和Wafer而設計的。它提供高分辨率成像，數據捕獲和表面特征分析，用於半導體制造質量控制。該系統包括一個運動和控制子系統，包括透鏡、激光、三維位置和尺寸計量、精密電動變焦裝置，以及跨Z控制和空氣軸承級、高速檢查運動。光學子系統具有集成的視頻捕獲、數據采集和分析功能,以及高動態範圍照明的使用。成像機配備了多種透鏡，便於低至高的放大倍率，允許廣泛的成像參數，包括視場、采樣距離、像素分辨率和光譜範圍。機載分析工具提供數據分析功能,如自動缺陷檢測和識別（ADF-R）、有限元建模、自動輪廓跟蹤像素計數、面積測量和相關性以及基於3D坐標的配準。該資產還具有自動測量工具，如眼鏡和面膜層計量。該模型旨在提供快速、精確和可重復的測量,從而為晶圓制造商提供更快速的評審和更準確的質量保證和產量決策。它具有很高的靈活性，為用戶提供了自定義參數和利用多種記錄格式進行數據收集的能力。OCA 40支持廣泛的圖像分析算法和有用的模式識別功能，使用戶能夠識別潛在缺陷，減少手動檢查大量掩碼和晶片的需要。該設備采用便攜式外形,可與其他生產設備同步。總體而言,DATAPHYSICS OCA 40掩模和晶片檢驗系統為掩模和晶片檢驗驗證提供了高效、高精度和可重復的測量、功能和功能,使其成為半導體制造行業質量和生產控制的理想工具。
還沒有評論