二手 ESTEK / KODAK WIS-850 II #168347 待售

ESTEK/KODAK WIS-850 II是用於制造過程控制的全畫幅掩模和晶圓檢測設備。為定量和定性分析提供了快速、可靠的光掩模和晶片檢測。它可以檢測各種缺陷，從生產過程相關缺陷到掩模/晶圓制造缺陷，包括顆粒、針孔、顆粒和碳殘留物。ESTEK WIS-850 II檢查系統結合了高分辨率光學長工作距離顯微鏡（OLWDM）和高級圖像處理算法。圖像采集單元以3.5um/pixel的圖像分辨率在全視野中捕獲晶片和掩碼。通過基於GUI的操作,用戶可以輕松設置自動掩碼/晶圓檢查運行、配置操作參數以及查看結果。可以使用實時分析模塊對地形、CD和缺陷大小和形狀進行測量,該模塊在預定義的驗收規則內搜索和分類所有晶圓和掩碼缺陷。機器提供靜態和動態對齊選項。在靜態對齊中,對設置點進行篩選以減少搜索時間並提高對齊精度。在動態對齊中，檢驗工具使用模式識別和匹配算法，實時自動對齊掩模和晶片。KODAK WIS-850 II還設計了高對比度光學檢查專用軟件，為大規模生產和批處理控制提供了全自動檢查方法。此外，該資產具有自校準和自動對焦功能，可針對機器老化進行調整，可以檢測和測量圖像采集過程中產生的圖樣和單位的失真。其先進的運動和照明控制能力確保了所有缺陷信息在明場和暗場檢測中的準確采集。WIS-850 II型號提供可靠的性能和較高的直通率。它易於使用,具有直觀的工具和控件,允許用戶快速設置生產運行並優化檢查過程。具有高分辨率圖像和自動缺陷檢測能力，是光掩模和晶圓生產過程控制的理想選擇。