二手 IMS 200MH Electra MX #9389231 待售

ID: 9389231
E-Beam inspection system.
IMS 200MH Electra MX是半導體制造商的頂級掩模和晶圓檢測設備。它具有先進的光學設備和高分辨率成像功能,可以檢測半導體器件中的缺陷,並詳細分析其在整個晶片中的確切位置。該系統使用精確的激光掃描單元,在高達60mm/秒的掃描區域內,每秒捕獲多達2000萬像素。它還配備了多種成像模式,如亮場、暗場、偏振光、輪廓分析和相移水平,可檢測各種類型的缺陷,包括粒子、方向、劃痕、凹痕和橋接。它還具有可以測量線寬、線長和小至16nm的空間等參數的測量算法。它與特征提取算法集成在一起,可以比較掩碼和晶片上的模式,從而對產品特征進行精確和可重復的分析。這臺機器的設計既易於使用,又考慮速度.它具有圖形用戶界面,可方便工具的操作、配置和管理,並提供模擬、分析和錯誤報告功能。資產還通過USB或以太網端口進行控制,從而實現遠程操作和控制。該模型設計用於三種不同的模式--連續掃描、區域掃描和手動掃描。連續模式下,設備每小時最多可掃描30個晶圓;在區域掃描模式下,每小時最多可掃描50個晶圓;在手動掃描模式下,每小時最多可掃描10個晶圓。該系統還具有低真空功能,能夠評估無顆粒表面,以及在其整個生命周期內提供一致照明的長壽命LED光源。該單元符合VDI/VDE、ESD標準做法和ISO標準。此外,它還具有強大的數據處理功能,可以快速分析大型文件和復雜圖像。總體而言,200MH Electra MX是一種先進的掩模和晶圓檢測機,適用於半導體制造.它具有高分辨率的成像能力和強大的數據處理能力,允許對半導體器件進行快速而精確的分析和評估。
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