二手 IMS LVIS-III #9159231 待售

IMS LVIS-III是一種先進的掩模和晶片檢驗設備，設計用於對晶片和掩模在制造、研發和其他應用中的快速準確分析。該儀器利用最新的數字成像和傳感器技術，創建晶圓或掩模表面的高分辨率圖像。該系統提供了廣泛的特性和功能，使用戶能夠有效和方便地檢查晶片或掩模是否有缺陷。該單元具有集成的紫外線（UV）和近紅外（NIR）光源，可調以允許顯微鏡分析晶圓或掩模上的不同層材料。顯微鏡還包括一個自動偏振濾波器，可以調整以優化晶圓或掩模圖像的對比度。一個集成的質詢箱允許用戶對被檢查的材料進行現場測量，從而實現準確和一致的可重復性。該機還包括一個高性能的電動XY級與車載數字步進電機。這允許用戶在X和Y方向上快速準確地移動樣本，以檢查整個視場。顯微鏡還配備了多種檢查程序，使用戶能夠準確檢測最常見的缺陷，如皺紋、變色、顛簸等。除顯微鏡外，該工具還包括一臺高分辨率數碼相機，能夠精確分析晶圓或掩模表面。它還包括用於數據捕獲、分析和報告的軟件。該軟件允許用戶調整圖像參數，以優化圖像的對比度和亮度。然後,所有映像都可以作為JPG或BMP文件導出到計算機硬盤驅動器,以進行進一步分析。總體而言,LVIS-III是一種功能強大且先進的掩碼和晶圓檢查資產,提供易於使用的界面和最新的成像技術,可獲得準確可靠的結果。該儀器非常適合研究和制造應用,使研究人員和制造商能夠快速準確地分析晶片或掩模的任何缺陷。