二手 J-MAR 010-3180-012 #9236123 待售

J-MAR 010-3180-012 Mask&Wafer Inspection Equipment是一種針對半導體應用的優化成像解決方案。該系統對各類基材和材料進行可靠準確的缺陷觀測和計量。該單元設計用於檢查掩模、晶片和介電層，以及一系列光學圖像，如光吸收、反射率、透射率和衍射。它包括三個組件：光學顯微鏡、光譜濾波器和數碼相機。光學顯微鏡與NA 1.4桿透鏡配合使用，該透鏡以不同的圖像比例和焦點提供基板或材料的高分辨率圖像。它還配備了遠程照明機，以提高圖像的可用性。采用先進的FFT（快速傅立葉變換）方法,改進了對比度、低失真和出色的成像分辨率。光譜濾波器用於從透射光中去除不需要的頻率，從而能夠以增強的檢測性檢測尖銳特征。濾波器還提供從可見紫外線（UV）到近紅外（NIR）的廣泛光譜範圍，分辨出大小亞微米圖像。數碼相機提供了詳細的高分辨率圖像。它配置了增強CCD芯片，以提高靈敏度和動態範圍，從而更好地檢測較小的缺陷。相機可以用來捕捉單個圖像或長系列圖像，允許用戶在較長時間內監視和識別精確的缺陷結構。此外，該工具還配備了先進的圖像處理工具，如缺陷識別算法、缺陷表征、缺陷分析等。然後對結果進行進一步分析，確定缺陷的根本原因。J-MAR 010-3180-012Mask&Wafer Inspection Asset結合了高級成像功能和重新設計處理工具,提供了高性能、低成本的解決方案。此模型可用於處理和質量控制應用程序的缺陷檢測和表征。010-3180-012面膜晶片檢測設備能夠提供準確可靠的結果，是一種可靠的面膜和晶片缺陷檢測解決方案。