二手 KLA / ICOS CI 8250 #9053897 待售
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KLA/ICOS CI 8250是一種高度先進的掩模和晶圓檢測設備。它旨在檢測、分析和分類制造過程中半導體光掩模和晶片上的各種缺陷。該系統由光學檢查單元、晶圓和面罩清洗機以及缺陷分類工具組成。先進的光學檢查資產有三種不同的光頭，每種光頭可以容納不同的掩模和晶圓尺寸。每個頭部可以檢測到各種不同大小和類型的缺陷，如線寬或形狀變化、異物夾雜物、霧霾、空隙、角力以及其他表面不規則。晶片和面膜清洗模型設計用於在檢查前徹底清潔面膜和晶片，提供最大精度。這種設備利用專有技術和工藝，能夠從表面清除最小的顆粒。最後，缺陷分類系統由強大的圖像處理算法組成，旨在識別每種類型的缺陷。這使設備不僅能夠檢測缺陷的存在,而且還能準確地對每種類型的缺陷進行分類,以便進一步分析。機器甚至可以對特定缺陷的嚴重程度進行分類，允許在制造過程中采用最佳的糾正策略。總體而言,KLA CI 8250是一種功能強大且精密的掩模和晶圓檢測工具,可確保半導體制造過程中的高質量和準確性。它能夠檢測和準確分類各種類型的缺陷,使制造商能夠快速有效地識別和解決潛在問題。該資產能夠減少與糾正制造過程缺陷相關的時間、材料和人工成本,使其成為任何半導體制造商的寶貴工具。
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