二手 KLA / ICOS CI 8250 #9103714 待售

KLA/ICOS CI 8250是用於檢測和識別半導體和光掩模器件制造缺陷的最先進的掩模和晶圓檢測設備。該系統結合光學顯微鏡（Kreischer-Duncker光學顯微鏡）等先進技術和先進軟件算法，以亞納米分辨率提供用於檢測掩模和晶片缺陷的綜合解決方案。KLA CI 8250的光學元件放置在工作臺的正上方,即使是最小的缺陷和汙染物也可以近乎即時地檢測到。該單元還使用先進的軟件算法來識別和分類蒙版和晶片上的缺陷，從而實現更高效的缺陷跟蹤和校正。ICOS CI-8250還采用人工智能算法來理解光刻設備的缺陷和非缺陷部件之間的細微差別。這臺機器有一個強大的圖像分析工具，被設計成易於連接到現有的計算機網絡，允許對獲得的圖像進行復雜的分析。此外,該資產能夠捕獲各種顏色的缺陷圖像,並且放大分辨率高達1400倍。CI-8250模型還包括各種高級診斷工具。這些工具允許驗證缺陷的大小和形狀,以及對汙染物和其他缺陷的診斷。此外，還提供了相位對比度、暗場和明場成像等先進成像工具，以進一步提高準確性和可用性。CI 8250還包括一個直觀的用戶界面,旨在方便部署和簡化整個檢查過程。此用戶界面允許快速調整檢查參數,以更好地適應特定任務和目標。此外，該設備還包括一個分析分析軟件，可以生成分析報告，以快速確定趨勢和可能改進的領域。總體而言，KLA/ICOS CI-8250是一個全面的掩模和晶片檢查系統，旨在快速、高效地提供準確和可靠的結果。這一部門為我們的客戶提供了一個功能強大但經濟高效的解決方案,它具有多種功能,旨在簡化和改進檢查口罩和晶片缺陷的過程。