二手 KLA / ICOS CI-T120 #293812251 待售

KLA/ICOS CI-T120是一種用於半導體工業的掩模和晶圓檢測設備，設計用於識別和確定潛在的半導體缺陷。它利用先進的圖像處理算法，以極高的分辨率（高達1600萬像素的成像能力）分析掩碼和晶片的圖像。此外,系統還具有六軸晶片級、四軸掩模級和垂直對準燈,可用於特殊任務的高通量成像。此外,它還具有分析模式的能力,如可用於自動評估模具相關線材的接觸圖像傳感器（CIS）,以及可自動測量具有統計意義的數據點的3D幾何誤差識別的3D結構識別。KLA CI T120還具有集成缺陷審查功能、錯誤厚膜識別、TFT線路測量和審查、整個芯片的測量（可實現高精度缺陷審查）以及分析潛在故障焊料滴的能力。該設備配備了兩種不同的掃描儀，一種是設計用於在曝光前檢查蒙版的「蒙版掃描儀」，另一種是「晶片掃描儀」，用於在生產過程中對晶片進行檢查和鑒定。蒙版掃描儀使用高功率LED進行照明，並使用兩個高分辨率相機捕捉蒙版放大圖像進行精確評估。晶片掃描儀包括一臺先進的紫外線源和成像機，能夠高速捕獲和收集整個晶片的圖像。ICOS CI T-120能夠以極快的數據采集速度提供可靠的內聯檢查。利用專門為該工具設計的新數據采集技術和算法，提高了成像吞吐量。操作員可以采用綜合缺陷檢測、特定缺陷類型檢測或芯片級檢測三種檢測方式進行缺陷綜合檢測。這樣就可以快速評估大量數據,而無需投資於其他設備。此外，檢查配方可以結合起來，以最大限度地提高效率，減少織帶檢查和假缺陷乘法。總之,KLA/ICOS CI T-120是一種先進、可靠的掩模和晶片檢測資產,具有強大的功能,包括十六兆像素成像、六軸晶片級、四軸掩模級和垂直對準燈,以及接觸圖像傳感器（CIS）等功能分析模式。它可以通過綜合檢查模式和快速評估大量數據來快速評估缺陷和自動化半導體生產。