二手 KLA / ICOS CI-T130 #9256514 待售

KLA/ICOS CI-T130 Mask&Wafer Inspection Equipment是一個前沿自動檢查平臺,旨在檢查一系列半導體零件,包括Mask和Wafer。該系統使生產工程師能夠快速準確地執行缺陷檢測、缺陷表征和其他重要任務。具有高級算法和高級自動化的快速處理單元可以對設備進行高度精確和高效的掃描,並提供極其準確和可靠的缺陷分析結果。KLA CI-T130使用3D圖像傳感器和2D傳感器掃描對象的缺陷。3D圖像傳感器可以檢測到所有類型的缺陷，包括劃痕、汙跡、汙染等常規光學技術無法檢測到的其他類型的物理損傷。它具有高達30 μ m的高分辨率成像和0.1 μ m的缺陷大小分辨率。2D傳感器在掩模/晶片的基板上掃描50 μ m,並測量圖樣的色差以確定通過或失敗。ICOS CI-T130可以檢測和識別所有類型的掩模和晶片上的缺陷,包括DRAM、閃存、SOI（絕緣體上的矽）晶片、3D-NAND和其他復雜的半導體器件。該機還支持一系列檢測模式，如宏觀檢測、微觀檢測、低放大率檢測。它的高批量掃描速度使得能夠在短時間內對大量物體進行快速可靠的檢查。該工具能夠進行基於缺陷的分類、數據相關的交叉功能檢查和模式匹配。它使用戶能夠有效地搜索和比較掃描圖像，以了解來自多個光源和波長的各種缺陷特性。這可幫助用戶準確識別掩碼/晶片的任何潛在問題。該資產還具有高級缺陷跟蹤功能,使用戶能夠快速識別和比較重復出現的缺陷模式。總體而言,CI-T130是一種高效可靠的掩碼和晶片檢查模型,可幫助半導體工程師快速檢測和識別掩碼/晶片缺陷。它的高級特性和功能有助於快速提供高度準確和可靠的缺陷分析結果。