二手 KLA / ICOS WI-1500 #9096185 待售
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ID: 9096185
Inspection system
Power consumption:
1000W-HM only
2000W-HM + 1 WI
3000W-HM + 2 WI
Air: 3.0 to 6.0 (absolute) = 80 NI/min
Vacuum: 0.2 bar (absolute)i.e. -0.8 (relative)-90 NI/min
Connection type air: 1/4" male fitting (On machine)
Connection type vacuum: 1/8" male fitting (On machine)
Cable: Single Phase.
KLA/ICOS WI-1500是一種掩模和晶片檢測設備,設計用於對半導體器件上的缺陷進行準確可靠的檢測。KLA WI-1500系統用途廣泛,能夠檢測多個晶片類型、電容器、電阻器、薄膜以及其他各種設備類型。ICOS WI-1500單元配備了三個折射和反射光學系統,以及一系列串聯成像和光譜成像傳感器。各種光學器件提供了廣闊的視野,以提供整個晶片的完整缺陷覆蓋。一對照明源可用,包括明亮的300-Watt Xe/Ne源和CoolLED近紅外源。成像傳感器以高達0.4微米的分辨率掃描晶片,包括分辨率高達0.15微米的高清檢測模式。該機器能夠檢測各種缺陷,包括汙染物、劃痕、短路缺陷和針孔。此外,WI-1500還支持自動缺陷信號增強,使其能夠檢測和讀出人眼看不到的微小劃痕和微粒。KLA/ICOS WI-1500完全自動化,每小時最多可執行500次晶圓掃描,具體取決於所檢查的缺陷類型。它還以最短的安裝時間提供快速吞吐量。一種集成的晶圓跟蹤工具跟蹤晶圓的位置和方向,確保缺陷測量的準確性和可重復性。該資產配備了一套功能強大的工具,用於快速缺陷檢測和分類。它具有自動化的分類功能,使經驗豐富的操作員能夠快速區分誤報和真正的盲目缺陷。此外,多層次缺陷分類模型使設備能夠根據缺陷的大小和形狀快速分類。KLA WI-1500還包括各種數據分析功能,旨在提供對設備性能的寶貴見解,包括光學反射率、金屬線粗糙度、側壁粗糙度、叠加精度和5D對準。除了缺陷分析,系統還可以生成自動報告和復雜的圖形,以提供對晶圓性能的詳細洞察。總體而言,ICOS WI-1500為掩模和晶片檢查提供了一個強大的解決方案,能夠精確檢測和分類分辨率高達0.4微米的缺陷。它提供強大的數據分析功能,並可以生成詳細的報告和圖表,從而提供有關設備性能的寶貴見解。
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