二手 KLA / TENCOR / HAMAMATSU R1617HA #200233 待售

KLA/TENCOR/HAMAMATSU R1617HA是一種高性能的掩模和晶片檢測設備，設計用於檢測以前無法檢測到的缺陷和圖樣晶片上的汙染。該系統結合了多種檢查技術，為用戶的生產過程提供了最大的靈活性和準確性。該單元提供了一整套檢查技術，包括光掩模檢查、晶片檢查、臨界尺寸（CD）測量和電氣測試，以檢測從掩模到成品晶片跨越多個級別的制造過程的缺陷。首先,該機器提供高級掩碼檢查功能。使用暗場光（DFL）和明場光（BFL）成像技術，工具可以區分光掩模上在常規照明下可見或不可見的缺陷。此外,背面檢查發現掩模背面的細微缺陷,從而擴大了常規資產設計的覆蓋範圍。接下來,該模型提供精確的晶圓檢測和分析.Critical Dimension （CD）檢查檢測和測量設計模式的精細細節,而一系列檢查技術,如傳輸暗場、明場和光譜成像,使設備能夠檢測晶圓表面的各種缺陷。對於電氣測試，該系統具有集成電路（IC）測試能力，在產品晶片上產生低缺陷密度。除了這些特性外,該單元還利用專門設計的元件來實現各種亞微米特性和光學薄膜結構,從而在廣泛的應用中支持精度。此外，該機器還采用先進的光學和光源設計，能夠在不影響吞吐量的情況下進行缺陷檢測。為確保最大程度的可靠性和性能,KLA R1617HA采用高級電磁（EM）測試、振動和溫度控制進行設計和制造,並利用強大的硬件/軟件組件和工具管理流程。資產也是完全可擴展的,使其成為滿足各種生產需求的通用解決方案。綜上所述,TENCOR R1617HA是一種功能強大的掩模和晶片檢測模型,可提供精確的缺陷檢測、精確的晶片CD測量和可靠的電氣測試,用於各種制造過程。該設備將復雜的設計與嚴格的質量控制過程相結合,為先進的生產要求提供了可靠且經濟高效的解決方案。