二手 KLA / TENCOR / ICOS CI-T130 #293616257 待售

KLA/TENCOR/ICOS CI-T130是一種先進的掩模和晶片檢測設備，為掩模和晶片質量控制提供最高水平的精度和精度。該系統采用先進的光學接近校正（OPC）技術來檢查和檢測口罩上的缺陷。KLA CI-T130利用Opto-Mechanical Pattern Overlay （OMPO）技術來創建高分辨率的蒙版圖樣圖像。此過程準確檢測幾種類型的掩碼缺陷,如線寬、開口、短褲、斷點和其他不規則性。該單元利用高精度透鏡、XY級和邊緣檢測來捕獲圖像。這些圖像由OPC軟件進一步處理，使機器能夠精確地測量和比較原始設計和制造的晶圓。此外，ICOS CI-T130還提供了檢測晶圓制造過程中可能引入工藝的粒子的專門能力。粒子探測器模塊利用自動暗場顯微鏡和強大的靜電成像技術，準確識別和計數過程中迅速分散的粒子。該工具還提供了檢測晶圓表面薄膜厚度變化的高級分析功能。這是通過使用高分辨率的表面高度測量技術，如結構光幹涉測量（Structured Light Interferometry）來實現的。這項技術使CI-T130能夠用亞納米精度測量表面高度變化。此外，該資產還包括一個直接亮場光子模塊（DBPM），它可以比任何其他技術更快、更準確地檢測掩模上的亞可見缺陷。DBPM過程使模型能夠檢測針腳、缺陷、裂紋和汙染的存在,其準確性比其他方法更高。TENCOR CI-T130還包括一個高度通用的自動化套件,允許用戶創建和自定義自動例程以分析掩碼和晶圓缺陷。自動化套件提供了靈活性,以便用戶可以指定檢查結構的哪些層,以及對每個層執行哪些類型的分析。KLA/TENCOR/ICOS CI-T130是一種功能強大、功能豐富的掩模和晶圓檢測設備,旨在滿足半導體行業的嚴格要求。KLA CI-T130憑借其先進的OPC技術、精確的表面高度測量和通用的自動化套件,為掩模和晶圓質量控制提供了全面的檢測解決方案。