二手 KLA / TENCOR / ICOS CI-T130 #293639085 待售

KLA/TENCOR/ICOS CI-T130是一種先進的Mask&Wafer Inspection設備,旨在為芯片和Mask生產提供無與倫比的精度、速度和圖像質量。該系統采用光學和成像技術的獨特組合,提供了無與倫比的精度水平,並檢查了低至0.003微米的特征尺寸。KLA CI-T130與化學機械拋光器（CMP）和化學氣相沈積（CVD）系統完全集成,通過自動測量每個晶圓和掩模的表面輪廓和無缺陷地形,確保結果一致。該單元還使用強大的視覺算法來檢測任何關鍵缺陷或潛在的產量損失。該機還通過其雙光束光學器件提供真正的高分辨率成像。第一個光束是一個亮場OptiScan模式，捕獲完整的圖像數據進行100%的檢查，最大分辨率為300毫米/像素。第二個光束是LED暗場OptiScan，提供30毫米/像素分辨率的高分辨率成像，用於檢測使用更明亮的光學器件無法檢測到的亞像素缺陷和粒狀地形特征。ICOS CI-T130利用具有強大模式識別軟件的最先進的圖像處理引擎來提高查看清晰度和減少誤報。該工具還提供逐層晶圓檢查，允許用戶快速準確地識別和診斷微觀特征和缺陷。除了掩模和晶片檢查之外,CI-T 130的功能還包括集成計量學、樣品優先排序和缺陷分類。它還有一個內置的SPC數據記錄資產，允許用戶跟蹤傳入和傳出的指標，為他們提供其生產線整體性能的一覽表。總體而言,TENCOR CI-T130提供無與倫比的檢查、成像和計量功能,以生產最優質的集成電路和掩碼。憑借其業界領先的精度、速度和圖像質量,用戶可以信任KLA/TENCOR/ICOS CI-T130快速準確地檢測和解決任何潛在的產量損失。