二手 KLA / TENCOR / ICOS WI-2000 #293639004 待售

KLA/TENCOR/ICOS WI-2000掩模和晶圓檢測設備是半導體工業用來檢測光刻掩模納米尺度缺陷的創新工具。它能夠檢測尺寸小於0.39 µm的缺陷,精度為0.1 µm,同時發現掩模異常和基板拓撲。此外,KLA WI-2000的自動特征識別消除了手動檢查和精確的故障隔離,從而提高了過程效率。ICOS WI-2000由多個模塊組成。它的第一個模塊是一個光學系統，旨在在晶圓的大部分上傳送高分辨率圖像。此單元使用21英寸顯示器以顯示SEM圖像。它由顯微鏡、專利雙掃描成像傳感器和CCD成像相機組成。此外，它的設計目的是減少振動和消除扭曲，提供極其精確的圖像集成控制機器。然後,集成控制工具將處理圖像以進行缺陷和故障檢測。它實現了幾種算法，如最大熵方法、灰度相關、邊緣直方圖和區域增長，以準確快速地檢測納米尺度缺陷。此外,資產還能夠識別復雜的特征,如線寬、橋接、曲面拓撲、邊緣粗糙度和中間材料。此外,WI-2000擁有多種連接解決方案,能夠與CAD和CIM系統配合使用。這通過簡化與其他系統的數據交換,進一步提高了模型的效率和生產率。它還具有超響應性的人機界面，使控制、監控和基本程序快速而簡單。綜上所述，KLA/TENKORTENCOR WI-2000是一種先進的掩模和晶圓檢測設備，設計用於檢測光刻掩模中的亞微米缺陷，精度、精度和卓越的速度。多個模塊、強大的連接解決方案和用戶友好的界面進一步提高了系統的性能,使其成為半導體行業的寶貴檢查工具。