二手 LASERTEC 7MD 62S #293652019 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 293652019
Automatic mask inspection system
STEAG / HAMATECH 210079 9110000 ASE GmbH Machine
KARL SUSS / MICROTEC Lithography G Ionisation unit
PANASONIC VP-5565A Oscilloscope, 50 MHz
USHIO UIS-2511DE88
OJIDEN OFL-TV-S5 Foot switch
(2) PANASONIC VQ-054R31 Probes
Controlled power processor
Controller keyboard
Automatic photomask / Reticle inspection system
Photomask defect detector
ST-Cam cable
Counter port
PIO Port cable
CPU: Intel Pentium 4 3.4Ghz / 1 GB RAM
DIF DD (TL) Card
SLCE (TL) Card
LIMAD(TD) Card
DIF DM Card
DIF DC (PSL) Card
SLCE (PSL) Card
LIMAD (AF) Card
DIF DG Card
(3) AD DG Cards
AMTX Card
DIF DD (TR) Card
SLCE (TR) Card
(5) DMTX Cards
DIF DJ Card
SLCE (HVC) Card
LIM AD (RD) Card
DIF DC (PSR) Card
SLCE (PSR) Card
F DET Card
POSI COMP Card
SL CONT Card
DEF MIX Card
SYNC Card.
LASERTEC 7MD 62S Mask&Wafer Inspection Equipment是一種先進的自動Mask and Wafer inspection system,旨在對半導體制造過程中使用的Mask和Wafer進行高精度的檢查。最先進的設備提供了不妥協的高分辨率成像和100X放大功能,並通過全場檢查幫助識別缺陷。該機支持前端和後端晶片等多種基材，加上晶圓測量、基於光刻的對準、PET、B或D面罩檢查以及高級節點設備高端面罩應用模塊。工具可以檢查尺寸不超過8英寸的基板,另外還有一個可容納12英寸基板的擴展現場選項。該資產采用高分辨率的20百萬像素攝像頭和高速的14 fps線性掃描技術,以滿足要求最苛刻的應用程序的最嚴格要求。它具有亞微米分辨率和多達6種檢測算法的能力，為汙染分析、線緣分析、叠加分析、ALD膜厚度控制和ALD殘余膜控制等應用提供最大的工藝控制。該模型還提供了多種圖像分析模式，包括光學缺陷檢測、線緣/寬度測量、散射測量和叠加測量。綜合綜合軟件包提供全面的數據處理、檢驗過程控制和缺陷分類評估，確保過程控制和質量控制的最高水平。為了提高可靠性和過程穩定性，該設備具有專有的動態模式匹配技術，可提供精確的模式識別和漂移控制。它還采用船上水管理技術對照片蝕刻過程中產生的水副產品進行優化，並采用高端光束監測器確保電子光學器件的穩定性。LASERTEC 7MD62S掩模和晶片檢查系統提供了一套全面的工具，旨在提供精確和自動化的檢查和分析。該設備擁有先進的硬件和軟件解決方案,是確保半導體器件設計和制造過程中最大程度的穩定性、可重復性和質量保證的理想工具。
還沒有評論