二手 LEICA / VISTEC 200 #9092984 待售

LEICA/VISTEC 200是為半導體制造而設計的先進的掩模和晶圓檢測設備。該系統使用先進的光學成像技術檢查掩模和晶片是否有缺陷和汙染。LEICA 200非常適合用於晶片和非晶片設備的生產、研發、診斷和故障分析。該單元由高精度的可變放大顯微鏡組成，用於獲取掩模或晶片的圖像。使用8倍物鏡快速準確地獲取圖像。此外,可以將圖像放大到500倍,以顯示否則無法檢測到的詳細信息。VISTEC 200提供強大的成像和數據采集功能,使用戶能夠輕松分析掩碼和晶圓圖像的缺陷。該機器能夠生成各種對比的圖像，包括假顏色、強度和雙波長。它還支持多種圖像處理技術，包括色彩混合、空間過濾和非線性縮放。該工具具有集成的缺陷檢測資產,可用於分析圖像的缺陷,如線緣粗糙度（LER）、線寬變化（LWV）和小橋（SB）。缺陷檢測模型是可定制的，用戶可以為不同類型的設備和設計規則定義檢查參數。除了檢查口罩和晶片外，還可以使用200來檢查鍵合墊、金屬區域、Photomask晶體管、photo vias等。該設備與各種掩模和晶片材料兼容，包括用於先進晶片級封裝（WLP）工藝的材料。LEICA/VISTEC 200是一種先進且高度可靠的掩模和晶片檢查系統,可提高用戶的性能、可靠性和擁有成本。通過使用先進的光學成像技術，該裝置可以很容易地檢測到各種各樣的缺陷，這使得它成為半導體制造商的理想選擇。