二手 LEICA / VISTEC 3300 #9238318 待售

LEICA/VISTEC 3300掩模和晶圓檢驗設備旨在幫助半導體制造商確保其設備的最高質量標準。該系統采用高精度光學和運動技術，能夠快速準確地檢測掩模和晶圓制造過程中的缺陷。該單元的設計以桌面和垂直對齊平臺為基礎，便於操作和調整零件。其光學系統旨在以最小的努力和最大的可靠性為用戶提供高分辨率和陰影精度。其掃描精度被設計為精確到2 μ米，其自動聚焦技術確保焦點在檢查過程中保持固定。照明技術方面，LEICA 3300采用LED光和漫射激光器的組合。比激光技術便宜的LED燈用於提供晶圓缺陷的高對比度圖像，而漫射激光器則用於檢查掩模是否有更精細的缺陷。該機器還配備了一系列數據捕獲和分析工具，使用戶能夠快速準確地檢測和分類缺陷或不規則性。該工具還提供了一系列分析工具,如Visualization Analysis、Stistogram analysis和3-D圖像重建,使用戶可以輕松區分好的和壞的區域。此外，它的用戶友好界面讓用戶能夠準確監控和控制資產，提供出色的用戶體驗。該軟件具有聯機幫助和模型顯示參數,可幫助用戶完成任務。VISTEC 3300掩模和晶片檢測設備設計用於任何環境下的可靠操作,並提供高效的制造工藝。它是想要確保其產品提供最高質量和性能水平的半導體制造商的必備產品。