二手 LEICA / VISTEC IMS 2000 #9283662 待售
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ID: 9283662
晶圓大小: 8"
Wafer inspection system, 8"
Cassette to cassette
Wafer handling
LEICA ERGOPLAN microscope with motorized X/Y 225 mm movement table
Leica PL Fluotar 10X, 20X
Leica PL APO 50X, 100X, 150X
Ergonomic Binocular viewing optics with Leica L plan 10X /25 eyepieces
ICR option (Interference Contrast Reflection (Nomarski Princible))
Laser autofocus
Integrated Dual Secondary Magnification with 1X, 1.6X and 2.5X range
Photographic Eye Tube with zoom adapter lense with 0.55X - 1.1X magnification range
Lamphouse
power supply: 100W, 12V
Halogen bulb
Donpisha 3CCD color vision camera module
Sony CMA-D2 camera adapter
Sony HR Trinitron
Model: PVM-1453MD monitor
HP Super VGA
Model: D2 HeNe laser
SMC digital pressure sensor
Power: 120V / 230V, 50 Hz / 60 Hz
CE marked.
LEICA/VISTEC IMS 2000是一種掩模和晶片檢查設備，設計用於對半導體制造過程中結構的幾何形狀和地形進行完整的評估。它具有高分辨率的成像能力，能夠檢測小至1微米的表面缺陷，以及掩模人工制品。它的高級軟件功能支持光學測量和自動化過程控制,並提供多種測量選項。該系統特別適合檢測密集電路區域的缺陷，如動態隨機存取存儲器（DRAM）和邏輯芯片。該單元由圖像采集機、顯微鏡級和控制單元三個主要組件組成。圖像采集工具包括電荷耦合器件相機和顯微鏡物鏡。它允許對結構進行高分辨率成像，直至納米級。顯微鏡級由X-Y-Z線性步進機構組成，為缺陷檢測提供了準確、可重復的表面掃描路徑。它還能夠自動化樣品和樣品裝卸。最後，控制資產包含所有必要的圖像處理和自動化功能，允許用戶根據自己的需求輕松快速地配置儀器。LEICA IMS 2000能夠產生晶圓和掩碼的高分辨率數字圖像,並且能夠對這些圖像進行後處理以進行缺陷檢測和測量。成像模型配備了「智能濾鏡」技術，可以自動檢測表面缺陷和掩模制品。同時，顯微鏡階段能夠進行平面場地形測量，精度可低至1納米。此外，顯微鏡可以用復雜的網格和模式進行編程，以便自動檢測缺陷和晶圓配準。VISTEC IMS 2000旨在提供可靠的檢查性能,並在短時間內提供完整的分析。這使其成為先進半導體制造應用中質量保證和工藝控制的理想選擇。其直觀的軟件界面和可靠、自動化的功能有助於簡化多項繁瑣而冗長的任務,從而有助於提高生產效率。
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