二手 LEICA / VISTEC INS 3000 DUV #9047675 待售

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ID: 9047675
Defect inspection system Wafer-handling station two ports front load Inspection and review application Standard UV + High Performance DUV application Automatic DIC Module Pre-aligner for Macro-Inspection KLARF input for Defect Review ADR – Automatic defect review of KLARF files Windows XP operating system CCD Camera Automatic high resolution inspections at 2.5X, 20X, 50X, 100X, and 150X (UV and DUV) Unit offers bright-light macro inspection, dark-field, and DIC inspections Operator console, track-ball, joy stick, motorized stage Viscon application software Defects from the KLARF (files from automatic inspection tool) can be reviewed in auto or manual mode.
LEICA/VISTEC INS 3000 DUV面罩和晶片檢測設備是專門為面罩和晶片檢測而設計的高性能光學顯微鏡系統。它提供了關鍵過程控制所需的最高靈敏度和分辨率。該單元結合了高速立體顯微鏡、數字圖像處理器和高級軟件功能,能夠以高精度和高精度檢查光學復雜的掩模和晶圓特性。LEICA INS 3000 DUV具有高速、全畫幅速率的立體顯微鏡,以快速、不間斷的觀測提供高度詳細的3D圖像。這臺機器有一個專利相幹光源的最佳對比度和圖像清晰度。非相幹聚焦跟蹤工具可確保對檢測器陣列的每個像素進行優化聚焦。自動優化功能進一步實時調整顯微鏡參數,優化成像性能。該資產還具有一個板載數字圖像處理器,用於處理、存儲和歸檔數字圖像文件。它通過自動分區、感興趣的區域和多層顯示功能提供快速而強大的圖像處理。界面允許靈活性和自定義分析以滿足所有檢查要求。該軟件還使操作員能夠快速分析數據、模擬詳細配置文件和存檔圖像。除了這些功能外,VISTEC INS 3000 DUV還具有3D矢量測量套件,可以進行精確的實時測量。它還提供3D顏色矩陣和2D測量選項,允許分析任何元件大小或形狀。此功能允許在各種應用程序中進行準確、可重復的測量。INS 3000 DUV是一種高度先進的掩模和晶圓檢測模型,可提供最高級別的性能和準確性。憑借其高靈敏度和分辨率,它甚至可以檢測到口罩和晶片中最小的缺陷。它提供高精度、高細節的快速成像,以及先進的圖像處理功能,以實現高效的數據分析。3 D矢量測量套件可確保精確、可重復的測量。該設備是工業和科學應用過程控制的理想設備。
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