二手 LEICA / VISTEC INS 3300 #9043670 待售

LEICA/VISTEC INS 3300掩模和晶片檢查設備是為有效分析掩模和晶片而設計的。適用於半導體制造生產、研發階段光學掩模模式和臨界光學電路元件的研究。LEICA INS 3300旨在實現最大限度的工作流程集成,使其能夠集成到現有生產線中。光學系統包括CCD攝像機、高分辨率液晶顯示器、精密x-y-z-tilt級以及帶浸入式物鏡和中心校正裝置的高效光學單元。該機器可與可選的顯微鏡和成像軟件（即LEICA MOM Suite）結合使用,使其成為過程監控和缺陷檢查的理想工具。VISTEC INS 3300工具提供多種測量功能,從簡單的手動檢查到全自動檢查序列。先進的檢查算法檢測到眼睛看不見的掩模和晶片中的故障，如汙染、汙染相關缺陷、未預期的坑、異物、顆粒或孤立斑點。此外，資產具有獨特的「邊緣軌跡」特征，清楚地顯示晶圓或掩模的外邊緣。INS 3300掩碼和晶片檢查模型提供兩個掃描/分辨率選項和兩個聚焦選項。高分辨率選項提供0.2µm的圖像分辨率和300線/秒的掃描速度。基本分辨率提供0.8µm的圖像分辨率和200 line/s的掃描速度。焦點選項可以設置為手動或自動模式；在手動模式下，用戶可以手動設置焦點，在自動模式下，設備自動聚焦對象表面。該系統還包括高質量的組件，如用於明亮、均勻照明的集成背光照明單元。集成的冷卻元件即使在較高的溫度下也能確保穩定可靠的機器性能。此外,LEICA/VISTEC INS 3300掩模和晶圓檢驗工具符合SEMI-S2和CENELEC-EN50660-2等國際標準。LEICA INS 3300 Mask&Wafer Inspection Asset是一種精密的檢測模式，在最具挑戰性的晶圓和Mask Inspection任務中提供高質量的性能。它為高速、準確和重復性關鍵型調查提供了許多高級功能。所有這些特性，加上它易於集成到更大的系統中，使得VISTEC INS 3300設備成為最全面和可靠的掩模和晶圓檢查的絕佳選擇。