二手 LEICA / VISTEC LDS 300M #9249428 待售

LEICA/VISTEC LDS 300 M是一種高科技的掩模和晶圓檢測設備，設計用於滿足光掩模和晶圓制造商的先進需求。該系統支持快速、準確和高度詳細的缺陷檢測。LEICA LDS 300 M結合了先進的激光二極管掃描（LDS）技術和強大的成像軟件來檢測小至0.6 μ m的缺陷。VISTEC LDS 300 M設計方便檢查200 mm和300 mm尺寸的口罩和晶圓，最大視野為25 mm x 25 mm，最大分辨率為3 μ m。設備的自動校準確保所檢查和參考的光掩模精確對齊,以便進行詳細的可視化和缺陷分析。LDS 300 M獨特的照明機包括Variable Triangle和Variable Pulse Imaging™，提供來自可變角度和可變脈沖照明的高對比度、高分辨率圖像。這確保了缺陷，甚至是微小的漂移和微裂紋，都能被放心地檢測和分析。此外,LEICA/VISTEC LDS 300 M可以對高速、精確和可靠的大區域執行檢查、審查和分析。LEICA LDS 300 M還具有先進的缺陷分類工具，包括自動識別被檢查的掩模和晶片異常的算法。該工具的高級軟件包包括幾個分類文檔,這些文檔提供了有關如何設置和分析測試結果的逐步說明。此外,VISTEC LDS 300 M的檢查結果可以存儲在盒式磁帶上,作為JPEG文件,並且可以通過USB導出。LDS 300 M是一種功能強大且可靠的資產，旨在檢測和分析光掩模和晶圓技術中最小的缺陷。該模型先進的LDS和成像技術,結合其直觀的軟件和用戶友好的操作系統,確保準確檢測和分析缺陷。此外,LEICA/VISTEC LDS 300 M是尋求可靠、高性能的掩模和晶片檢測設備的光掩模和晶片制造商的理想解決方案。