二手 LEICA / VISTEC LDS 3300M #293652321 待售

LEICA/VISTEC LDS 3300M是一種全自動的掩模和晶片檢查設備，設計用於高精度分析由細線和高對比度特征組成的光掩模和晶片。該系統采用了高分辨率的1000 μ米檢查區域攝像頭,允許高達140 MP的分辨率,從而實現了對表面和地下特征的高分辨率成像。它支持各種反射和透射遮罩材料,並能夠對20 nm線和空間以下的特征進行成像。LEICA LDS3300M配備了多種功能強大的後處理工具，如圖像減法、圖像添加、比較和掩碼對齊等。然後可以使用包括顏色編碼、3D檢查和假顏色映射在內的特征進一步處理對齊的圖像。VISTEC LDS 3300 M配備了先進的光學和圖像處理能力，以確保可靠、準確和快速的檢查。其獨特的高精度檢測技術是專門為評估校準精度而設計的，即掩模與晶片之間的尺寸精度。該設備是口罩鑒定、產品設計開發監督、參數驗證和確認的理想設備。除了精確度外，該機器還可以編程為並行執行幾項檢查任務，從而提高流程和產品數據吞吐量。LDS 3300 M包含先進的亮度和對比度控制工具,允許用戶修改亮度和對比度設置,以實現明場和暗場成像,並區分圖像噪聲和圖像缺陷。此外，資產包含一個綜合的自動化缺陷審查和分類程序，以便在檢查和審查期間提高生產率。LDS3300M還包括一套內置芯片鑒定模塊,以確保可靠的芯片生產過程,以及各種內置性能指標,以便於對掩模性能進行定性和定量評估。最後,LEICA/VISTEC LDS 3300 M中包含的預防性維護模型可確保設備在最高效率時始終運行。該系統允許遠程錯誤檢測和通知,非常適合高吞吐量和關鍵制造環境。LEICA LDS 3300M為掩模和晶片檢測提供了快速、準確和可靠的解決方案,是當今最先進的掩模和晶片檢測系統之一。