二手 LEICA / VISTEC LWS 2000 #9115819 待售

LEICA/VISTEC LWS 2000 Mask&Wafer Inspection設備是一種用途廣泛的高性能儀器,用於精確檢查任何光掩模或晶圓。該系統采用自動口罩對準器（AMat）,具有精確的500 mm x 500 mm級和高分辨率、低失真的攝像頭,以確保高質量的成像。LEICA LWS 2000還具有高端掃描頭,能夠在單幀中捕獲大視野。集成光學單元經過優化,可以在成像過程中精確對準晶片/掩模,從而確保精確測量。板載對齊軟件使用戶能夠快速準確地建立和調整焦點。Mask&Wafer Inspection機器包括一個直觀的圖形用戶界面,使用戶能夠輕松訪問一系列功能強大的算法來分析獲取的圖像。綜合計量學工具可用於評估光刻過程，檢測任何缺陷如圖樣邊緣或圖樣交叉誤差，準確估計圖樣的臨界尺寸。高級縫合和自動化鑒定工具使用戶能夠快速評估晶圓鑒定所需的一系列參數。該工具還能夠檢測顏色、缺陷、粒子、異常、異物和其他變量。它配備了一套完全可配置的集成照明選項,允許在任意幾何形狀和特征中進行可靠的缺陷檢測。此外，資產利用一系列集成算法提供快速缺陷檢測和報告。其閃電快速成像功能使用戶能夠快速高效地分析大型晶圓區域。此外,VISTEC LWS 2000提供了一組功能強大的面向數學的工具,可用於精確分析晶圓特征、識別缺陷和測量某些參數。用戶可以在絕對、相對或混合模式下執行這些測量,從而實現進一步的分析和改進。此外，集成模式識別算法能夠檢測復雜設計結構中的異常。該模型非常適合任何需要精確晶圓測量和缺陷檢測的應用。