二手 LEICA / VISTEC MIS 200 #293671054 待售

LEICA/VISTEC MIS 200面罩和晶圓檢驗系統是一種全自動計量儀器，設計用於半導體工業。其主要目的是快速準確地檢測光刻面膜或晶片的缺陷和缺陷。它提供精確、高吞吐量和可靠的數據收集。該系統配備了先進的光學成像、X射線發光和檢測系統，以及用於檢測缺陷的魯棒算法。它專為高效操作而設計,可輕松與其他高級工具集成。LEICA MIS 200采用激光共聚焦顯微鏡,可提供二維（2D）圖像,在掩模或晶片中的特征之間具有良好的對比度。掃描圖像的分辨率可達200納米，可有效檢測微觀缺陷。另外,還使用四維（4D）掃描X射線顯微鏡（SXM）檢測材料中的三維（3D）缺陷或拓撲變化。利用X射線技術,在較大的表面積上掃描時可獲得高達1000 nm的分辨率。VISTEC MIS 200還配備了紫外線濾波器,能夠在紫外線（UV）範圍內進行檢查。這一特性使得可視化缺陷和晶圓材料之間的紫外線反射率差異成為可能。可以選擇正向（FS）和暗場（DF）成像選項,以最好地分析所討論的晶片或掩模的表面。缺陷檢測器被編程為評估傳入數據並識別任何缺陷。其算法設計用於檢測缺陷,無論大小、形狀、角度或對比度如何。一個獨特的光束輪廓也允許同時分析幾個圖像，以便識別和大小缺陷。從MIS 200收集的數據使用圖形用戶界面（GUI）易於解釋,可用於生成完整的缺陷、膠卷和叠加圖像。這些圖像可以通過電子方式發送或打印,以進行審閱、測量和優化。它的自動化功能和用戶友好的設計使LEICA/VISTEC MIS 200成為掩模和晶圓檢查應用的理想選擇。