二手 LEICA / VISTEC MIS 200 #77516 待售

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ID: 77516
晶圓大小: 8"
優質的: 1992
Inspection system with Ergoplan microscope, 8" Power requirements: 220VAC single phase, vacuum Total hours: 41466 Configuration: ICR Filter 573098 ICR Filter 573097 Leitz Periplan GW 10x/26 High focal point M eyepieces Leitz PL FLUOTAR 5X/0.12 Leitz 567015 */- LP FLUOTAR 10X/0.25 D Leitz 567017 */0 PL FLUOTAR  50X/0.85 D Leitz 567024 */0 PL APO 100X/0.90 D Leitz 567043 */0 PL APO 150X/0.90 D Stage 026-407.144/20606 with removable 7.5" x 7.5" Vacuum Chuck insert Joystick 301-3603147/283  572086 RMX-Controller Computer 301-364.081/00158 Power distribution box 301-364.060/169 208/230VAC 50/60Hz 10A 2100VA Stage Drive 301-365.001 1992 vintage.
LEICA/VISTEC MIS 200是半導體工業中使用的一種精密的掩模和晶圓檢測設備。該系統利用一流的光學檢查技術,加上出色的光學和成像工具,提供準確、可靠和可重復的結果。該單元專為光掩模檢測而設計,其高放大能力、柔韌性和先進的彩色成像技術使其成為最全面的面罩檢測機。該工具采用先進的光學技術,旨在提供卓越的圖像質量和分辨率,為各種尺寸、形狀和材料提供各種檢查結果。該資產采用模塊化設計,采用多種光學功能,包括5倍至40倍的原生放大倍率,用於成像/檢查(變焦範圍可達500倍)、光纖照明、亮場、暗場和斜光,以及自動暗場和亮場檢查。該模型與成像和分析軟件套件ARRIANA LAB接口,以實現不透明度、邊緣拉力、詳細成像和其他應用程序的實時缺陷審查和優化。該設備具有自動采集圖像和自動對焦功能、強大的色彩管理和先進的模式識別軟件。它還具有多圖像視圖(MIV)技術,可以同時查看多個圖像,從而提供質量保證和缺陷分析。該系統配備了功能齊全的客戶端/服務器網絡體系結構,可在掩碼和其他診斷工具之間快速輕松地共享數據。該單元包括一個接近效應校正(PEC)包,它精確模擬成像偽像的效果,如那些由灰塵和劃痕。該機器還可用於晶圓、零件和組件的檢查。它提供高分辨率成像和弱光能力,以檢測晶圓處理過程中可能發生的微小顆粒、劃痕和其他異常。它的高級分析功能使用戶能夠快速識別和糾正潛在問題。LEICA MIS 200是半導體制造商的寶貴資產,因為它有助於確保安全、可靠和高產產量。它非常適合生產、質量控制和故障分析應用,提供優異的性能和質量控制結果。
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