二手 LEICA / VISTEC MIS 200 #9137335 待售

LEICA/VISTEC MIS 200掩模和晶片檢測設備是檢查、驗證和糾正光掩模和晶片產品缺陷的理想解決方案。該系統可提供高精度的成像、缺陷檢測和校正,從而提高產品性能和產量。LEICA MIS 200單元背後的技術是多層光學、優化數值成像算法和基礎物理的獨特組合。該機利用透鏡光學和先進的光散射技術，創建缺陷點的高分辨率圖像，使工具能夠快速準確地檢測和分類缺陷點。成像過程還通過使用嚴格的缺陷相幹算法準確確定缺陷大小和形狀來捕捉缺陷的全寬度。VISTEC MIS 200具有開放的體系結構,可增強靈活性,允許升級和與其他現有軟件和硬件集成。該資產還具有高效的用戶界面,可快速輕松地進行掩碼和晶圓檢查設置,以及功能強大的自動化缺陷分析和糾正工具。該模型可以檢測許多不同類型的缺陷和像差，包括顆粒缺陷、裂紋、劃痕、不完全吸收層以及其他常見的故障。此外,它還可以檢測多達9層的多層掩碼缺陷。該設備還允許用戶快速分析缺陷信息以進行提示更正，從而無需運行或重新運行額外的測試進程。MIS 200面膜和晶片檢驗系統是提高生產面膜和晶片精度的有效方法。這臺機器具有創新的光學單元、強大的自動化工具和強大的設計,為希望提高產品生產效率和可靠性的制造商提供了理想的解決方案。