二手 LEICA / VISTEC MIS 200 #9234197 待售

LEICA/VISTEC MIS 200是為半導體生產應用而設計的掩模和晶圓檢測設備。它是一個高性能的系統，允許用戶準確檢查其掩模、晶片和其他相關材料的每一級，同時盡量減少所需的時間和工作量。該股由若幹組成部分組成，這些組成部分共同努力確保進行高效和準確的檢查。LEICA MIS 200的關鍵部件包括高分辨率共焦成像模塊、偏振對比度模塊、總反射率模塊、多視覺檢查模塊、樣品清潔度檢查模塊、對準站和軟件包。機器的成像模塊配備了先進的高質量成像技術，能夠對掩模和晶片進行精確檢查。此模塊以卓越的清晰度掃描圖像並解析精細的細節,從而使用戶能夠準確識別和評估掃描的掩碼和晶片上的最小缺陷。偏振對比度模塊允許用戶檢查圖樣表面上的偏振光，而不會出現暴露不足或過度暴露的斑點。此外,此模塊還可以檢測標準檢查方法通常會遺漏的缺陷。總反射率模塊設計用於在掩模和晶片上進行快速、定量的反射率映射。此模塊測量反射率和薄膜厚度,使用戶能夠檢測相鄰層之間的小厚度差異。多重視覺檢查模塊是一種功能強大的光學工具，可為用戶提供關於缺陷的增強視圖。此模塊允許用戶識別掃描的掩碼和晶片的表面缺陷。此外,此模塊還能夠識別掃描的掩碼和晶片之間損壞的電氣連接。該工具的樣品清潔度檢查模塊使用戶能夠在檢查前準確檢查樣品的清潔度。該模塊檢測汙染物，如粉塵和有機碎片，使使用者能夠在進一步檢查前清除汙染物。資產的對準站配備激光技術，確保被檢查的掩模和晶片精確對準。這種可靠的對齊方式將確保掩碼和晶片的所有掃描都是準確和一致的。最後，VISTEC MIS 200還包括一個使整個檢查過程自動化的軟件包。軟件包括圖像處理和分析工具，以及一個直觀的用戶界面，允許用戶輕松監控和配置他們的檢查設置。總體而言,MIS 200是一種高度先進的掩碼和晶片檢查模型,它使用戶能夠快速準確地檢查其掩碼和晶片是否有缺陷。是半導體生產應用的理想解決方案。