二手 LEITZ 100x #9177017 待售

LEITZ 100 x Mask&Wafer Inspection system是一種用於半導體晶片和Mask的高分辨率成像的顯微鏡設備。它具有自動化的電動舞臺、精密的CCD攝像機以及用於放大和檢查的長工作距離目標。100 x提供優異的光學性能,具有快速的10位圖像采集速率和24位顏色。該系統設計小巧輕巧,非常適合空間有限的工業環境。LEITZ 100 x具有高度先進的機動化階段,能夠精確定位和掃描對象以進行成像。集成的CCD攝像頭以130萬像素的分辨率捕捉高分辨率圖像,最大幀速率為30f/s。機動化級可以編程調整其位置和速度，以便於晶圓和掩模的精確掃描。此外,符合人體工程學、可調節的對焦旋鈕可確保輕松準確的對焦。100 x還具有一系列可用的目標，從用於廣域設想的低倍率5倍目標到用於顯微鏡檢查的高倍率LEITZ 100倍S-Plan Apochromat目標。內置軟件可方便地進行圖像采集和處理,並提供通用的數據分析。100 x還具有高達25 mm的長工作距離,可在不接觸口罩或晶片的情況下進行近距離檢查。此外,LEITZ 100 x還配備了先進的照明工程,以確保最佳的圖像質量.Brightfield, darkfield, and antlique lighting are available, have user with the flexibility to customize the illumination needs for eLED提供持久、一致的光,而冷凝器在整個樣品表面提供均勻和高強度的照明。100 x是工業和實驗室環境中的掩模和晶圓檢驗的理想選擇。其先進的成像系統、可變目標、照明技術和長工作距離相結合,使其成為各種成像應用的完美工具。可調參數，如對焦旋鈕、舞臺速度和可選照明模式，為每個樣品的成像要求提供了輕松精細的調整。LEITZ 100 x是一種高性能、可靠的工具,可促進各種應用程序的卓越分辨率成像。