二手 LEITZ Ergolux #60381 待售

ID: 60381
Trinocular with DF and BF Motorized nosepieces 10x eyepieces 50x, 100x, 250x, 500x, 1000x NPL Plan 6" stage XYZ 5 mega pixel camera/video plus software Can measure at less than micron level Can measure exact distance between micron objects.
LEITZ Ergolux Mask&Wafer Inspection Equipment是一臺最先進的機器,用於檢查制造和科學應用中的mask和wafer。該系統采用先進的光學技術,準確、精確地測量各種掩模和晶片類型的各種特性。光學計量單元提供了無與倫比的精度和快速的數據分析被檢查的表面.該機操作快捷方便,非常適合用於大批量生產以及研發環境。Ergolux Mask&Wafer Inspection Tool由具有集成光學器件的基礎單元和空間光調制器(SLM)組成。SLM包含測量和分析掩模或晶片表面所需的組件。這包括激光光源、偏振光束分離器和檢測光學器件。基本單元包含操作資產所需的CPU、DSP和其他硬件。該模型能夠檢測和測量對於光學顯微鏡等傳統方法而言往往太小的表面特征。它提供各種參數的數據,如輪廓、平面外位移、表面粗糙度、反射率、透射和結構特性。設備配備了先進的數據分析和可視化能力,使操作員能夠快速對結果做出有意義的解讀。LEITZ Ergolux掩模和晶圓檢查系統能夠執行各種測量。這些包括表面紋理、薄膜厚度、應力、側壁角度、平整度等級、材料組成、輪廓、平面外位移等。光學單元配置有主動聚焦算法,以確保來自一定高度範圍的聚焦圖像。機器的人體工程學設計是為確保操作員能夠長時間舒適地工作而量身定制的。Ergolux Mask&Wafer Inspection Tool旨在提供無偏見和可靠的詳細、準確和可重復的數據分析。資產的卓越性能確保了可靠和可重復的結果。該機器還配備了全面的軟件控制選項和全面的模型文檔,使集成到自動化系統中變得輕松安全。LEITZ Ergolux口罩和晶片檢查設備是任何需要對各種口罩和晶片進行可靠和準確檢查的應用程序的理想選擇。憑借其先進的光學技術、易於操作和符合人體工程學的設計,系統為用戶提供了一個高效而強大的工具來產生準確且可重復的結果。
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