二手 LEITZ MM6 #9150088 待售
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單擊可縮放
ID: 9150088
Wide field metallographic microscope pancratic optical system
Manual X-Y Stage with large rotary stage
450W XBO Xenon light source
Large view screen, automatic large 4X5 format camera
(1) Periplan GW 8x M eyepiece
(1) Periplan GW 8x M F eyepiece
Dust cover
Objectives:
PL 80x/0.95 Achromat Plano Objective
PL 160x/0.95 Achromat Plano Objective
PL 3.2x/0.06 Achromat Plano Objective
PL 8x/0.18 Achromat Plano Objective
PL 16x/0.30 D Achromat Plano Objective
PL 32x/0.50 D Achromat Plano Objective.
LEITZ MM6 Mask&Wafer Inspection設備是一種自動晶片缺陷補丁檢查系統,可對各種晶片尺寸的各種類型的缺陷進行高速、深入的檢查。該單元使用模式識別技術檢測設計和過程相關缺陷。它提供了高度準確、快速和可靠的缺陷檢測和分類。該機器提供硬件和軟件模塊的全面集成,這些模塊協同工作,為全面的晶圓缺陷檢測和校正提供自動化解決方案。它包括掩碼檢查子系統、模式識別子系統、缺陷分類子系統、缺陷定位子系統和掩碼數據歸檔子系統等各種子系統。掩碼檢查子系統允許用戶從各種掃描模式中進行選擇,以獲得最佳的修補程序選擇和缺陷確認。它利用線掃描技術實現了更高的精度。掃描模式包括單掃描、多掃描、對比掃描、段掃描和反向掃描。模式識別子系統使用了光學和物理模式識別、絕緣子上矽(SOI)擬合算法、最先進的模板匹配算法等多種方法來識別缺陷。它能夠識別各種缺陷,包括粗糙度、汙染、邊緣粗糙度等。缺陷分類子系統是一種先進的技術,它為每個缺陷分配一個分類編號。這使用戶能夠快速準確地識別缺陷的類型和大小。分類代碼包含指示缺陷嚴重程度的數字。缺陷定位子系統用於準確識別和監視缺陷位置。該工具能夠以高分辨率檢測極小的缺陷。掩碼數據歸檔子系統允許用戶存儲掩碼數據以供將來參考。它能夠存檔多達10,000個掩碼模式。MM6 Mask&Wafer Inspection Asset是一種功能強大的工具,可幫助確保晶圓檢查和缺陷校正的準確性和效率。它為有效的缺陷補丁檢查和糾正提供了全面、自動化的解決方案。該模型提供可靠和高速的操作,並提供卓越的效果。
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