二手 METRICON 2010/M #80299 待售

METRICON 2010/M Mask and Wafer Inspection設備是一種自動化的高精度光學檢查和測量工具,用於關鍵的集成電路生產。該系統在一個綜合單元中結合了三個專門儀器，用於檢查和測量掩模和晶片材料。這允許通過自動可視化、靈活測試和通過/失敗分類來評估晶圓特性。METRICON 2010/M包括一個用於晶圓缺陷檢測的XY級和兩個用於測量掩模形狀和輪廓的光學儀器。XY級驅動二維掃描平臺,使機器能夠同時捕獲掩碼或晶片的頂視圖和橫截面圖像。光學儀器包括一個散射儀，用於測量掩模的光學散射特性，以及掃描電子顯微鏡（SEM）。SEM用於分析掩碼的結構和特性,提供非常適合3D成像的高分辨率圖像。除了這兩種儀器外，METRICON 2010/M工具還包括一個3D級，用於獲取掩模或晶片的高度和形狀的測量值。這是利用激光光束完成的，激光光束掃描表面，並用於構造所討論對象的3D圖像。最後,METRICON 2010/M資產還包括許多軟件組件,用於自動獲取數據以進行分析。該軟件包括可快速分析數據的統計模型，以及用於從為檢查過程獲取的大量數據中提取信息的數據挖掘模塊。METRICON 2010/M模型是用於掩模和晶圓檢查的強大工具，在評估特征時提供高精度和準確性。與手動檢查方法相比，利用這些工具可以縮短測試周期並提高成本效益。該設備被領先的半導體公司用於生產集成電路，用於質量控制和過程監測。