二手 METRICON 2010 #9246090 待售

ID: 9246090
Prism coupler Reflective index: Single / Dual thin film layers Measurement accuracy and resolution: Index accuracy: ± .001 Thickness accuracy: ± (0.5% + 50 A) Index resolution: ± .0005 Thickness resolution: ±0.3% Refractive index measuring range: Films and bulk materials with refractive index: 2.45 Films with index up to 2.70 (Depending on film thickness) Typical measurement time: 10-25 Seconds with standard table 15-75 Seconds with high resolution table Index measurement of bulk materials / thick films: Accuracy: ± .001 Resolution: ± .0005 Bulk measurement: 5-20 Seconds Operating wavelength: Low power: 0.5mW He-Ne Laser: 632.8nm CDRH / BRH Class II Substrate materials: Silicon GaAs Glass Quartz Sapphire GGG Lithium niobate Substrate size: Up to 150 mm² Prism types / Index range: 200-P-1 / <1.80 200-P-2 / 1.70-2.45 200-P-3 / <2.10 200-P-4 / <2.02 Rotary table step size: 3.0 or 1.5 min High resolution tables: 0.9/0.45 or 0.6/0.3 min No-charge option.
METRICON 2010是一款最先進的自動面罩和晶圓檢測設備,旨在滿足半導體檢測的最高標準。該系統采用先進的模式匹配和光學顯微鏡技術,以無與倫比的精度發現和分類掩模缺陷和晶圓汙染。利用先進的算法,2010年能夠以高度精確的分辨率掃描晶片,使其能夠檢測到低至1/100微米的缺陷。專有的照明解決方案也可用於使METRICON 2010能夠準確識別任何被檢查晶圓中最小的缺陷。由於采用了12 MP相機技術,該裝置對0.2um以上的微粒和0.5um以下的亞微米缺陷提供了有效的檢測率。除了密切關註整個晶片外,2010還遵循行業標準的清潔室配置以及高級故障隔離功能,這些功能允許快速識別和排除缺陷區域。這有助於確保高規格零件的產量以及提高工藝效率。METRICON 2010的其他功能包括用於整個掩模檢查的高速掃描,以及可直觀顯示缺陷位置的直觀GUI。通過顯示缺陷屬性(如大小、形狀、位置和方向),可以提高缺陷分類的準確性。2010年機器的自動化和多功能性使其成為高通量生產的理想選擇,在整個掩模和晶圓檢測過程中提供了成本效益和提高的效率。此高級工具旨在提供卓越的準確性和性能,以幫助應對當今快速增長的半導體行業的挑戰。
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