二手 MICRO ENGINEERING LM 320 #9085607 待售

MICRO ENGINEERING LM 320是為檢查應用特定標準產品（ASSP）使用的最復雜的光掩模和制造大面積IC而開發的先進的掩模和晶圓檢測設備。該系統能夠捕獲光掩碼和晶片的圖像，這些圖像可用於檢測微小的缺陷，如顆粒、汙染物和缺失的金屬，以及可能導致故障的表面不規則。該裝置配備了高性能的電荷耦合器件（CCD）相機和先進的光學器件,能夠進行精確的視覺檢查,並具有覆蓋寬視野和微米大小特征的自動生成的光學參數和光場。該機器能夠探測到小至1.0微米的粒子。它可以識別低至0.4微米的特征，並且具有1.2微米的可編程的最小特征大小。它還包括一個機動化階段，以實現更快的掃描速度和更高的檢查準確性。可以調整工具的視場以滿足所需的分辨率,同時提供最佳圖像。該資產在Windows環境中運行,使其在基本熟悉計算機的情況下易於控制。分析軟件也是用戶友好的,可以設置為運行常規檢查並在需要時提供可行的反饋。該模型還包括一套完整的掩模和晶圓評估應用，如叠加、角力、反射率和粒子檢查。這使得它適合廣泛的檢查和計量需要，而無需購買額外的軟件。該軟件是市場上最先進的掩模和晶片評估和檢驗包之一，提供了極其可靠的數據。設備能夠檢測到從很小到很大的各種缺陷，確保迅速準確地查明和解決任何潛在問題。LM 320是開發、制造和檢驗各類光掩模和晶片的寶貴工具。它能夠快速掃描和評估來自最復雜的掩模和晶片的樣品，使其成為參與組裝、檢查和制造光掩模和晶片的人的可靠和有效的解決方案。