二手 MICRO-METRIC MicroLine ML420 #9266732 待售

MICRO-METRIC MicroLine ML420 Mask&Wafer Inspection設備旨在滿足半導體制造工藝日益嚴格的要求。它利用先進的光學技術和計量技術來分析半導體器件的完整性。該ML420能夠檢測高密度、多級模式、電路結構、亞微米特征以及在長達兩微米深度的缺陷形成。該系統具有自動級,可以掃描和檢查高達250毫米的晶圓,掃描速度高達4K/秒。ML420還配備了獨特的自旋掃描功能,可以在檢查過程中旋轉晶片,突出顯示選定的感興趣/缺陷區域。這樣可以更深入地查看每個特征。此外,該單元還包括一個自動的「每視圖聚焦」（FPV）模塊,該模塊在掃描時調整圖像字段,以補償晶圓表面地形,從而提供更高的精度和準確性。該ML420還具有強大的光路徑處理（LPP）算法,該算法根據統計標準檢測模式和缺陷,從而最大限度地減少了用戶手動驗證數據的需求。該ML420還包含內置的圖像質量增強（IQE）算法。這些算法可自動增強采集的圖像，從而無需手動調整增益和偏移值，從而提高了過程的可重復性。由於其強大的優化功能和可配置的操作參數,該機器還可用於各種應用,如Resist Imaging、Sub-Pixel Edge Detection和Cross-Line Measurements Inspection。該ML420還包括一個集成的缺陷管理工具,並提供用於缺陷隔離、表征、檢測、分類和標記的自動化工作流。這有助於減少檢查時間,並確保不遺漏任何嚴重缺陷。此外,該資產還具有數據記錄、報告和遠程診斷功能,可幫助用戶實時排除問題。MicroLine ML420 Mask&Wafer Inspection模型的先進特性使其成為半導體器件的強大解決方案。它為檢測高密度、亞微米結構和復雜電路提供了可靠有效的結果，可以提高產量和提高工藝控制。這使ML420成為尋求高級光學檢查解決方案的組織的首選。