二手 MOLECULAR IMPRINTS Imprio 55 #293590454 待售

MOLECULAR IMPRINTS Imprio 55是一種綜合性的掩模和晶圓檢測設備，專門設計用於在半導體制造過程中提供最大的操作員靈活性。該系統提供了在整個基板材料範圍內快速、準確和可重復的關鍵特征尺寸以及層和關鍵覆蓋特性的測量。Imprio 55由一個高分辨率的光學晶片成像子系統和一個安裝在頂部的掩模檢查頭組成,可同時查看頂部和底部的掩模表面。該成像子系統具有五個光學通道,包括激光二極管和Moire相移,通過專有的圖像處理體系結構提供優化的成像,以快速準確地檢測缺陷。該裝置還提供各向同性表面檢查的圓偏振光檢查。除了光學成像能力外，MOLECULAR IMPRINTS Imprio 55設計了強大的原位樣本裝填定位機，允許在無人看管的操作中快速的晶圓定位和檢查多達12個口罩。中央控制控制臺具有直觀的圖形用戶界面,支持各種數據分析工具,使用戶能夠訪問預定義的檢查配置文件,並能夠自定義自定義的設置和分析參數。多個叠加模式提供了在精確的2軸級幫助下檢查各種對齊規範的靈活性。Imprio 55還提供了一個集成的計量包,其中包含一系列高級測量解決方案,包括CD、臨界尺寸、坐標和線寬測量以及叠加位置、平頂/底部和叠加高對比度結果。此外，它還支持幾種專門針對流程控制的高端統計流程控制模式、分析和報告，包括全面註冊。簡而言之，MOLECULARimprintsImprio 55 mask&wafer inspection tool from MOLECULAR IMPRINTS旨在提供半導體制造所需的靈活性、準確性和可重復性。其高分辨率的光學資產、自動晶片加載和定位、精細的圖像處理和集成的計量功能使該模型能夠快速可靠地對掩模和晶片進行高級檢查和分析,從而幫助將生產時間和成本降至最低。