二手 NANOMETRICS 210 #9160092 待售

NANOMETRICS 210
ID: 9160092
Thin film thickness measurement system, 4" Range of thicknesses: 100 to 500,000 angstroms Spot size: 50 um with 5x objective 25 um with 10x objective 6.5 um with 40x objective Olympus M10x and M40x objective Optional objectives are Olympus M5X and M100X Film types: Oxide on silicon Nitride on silicon Negative resist on silicon Polysilicon on oxide Negative resist on oxide Nitride on oxide Polyimide on silicon Positive resist on silicon Positive resist on oxide Reflectance mode Thick films reproducibility: 5A ± 5% depend Typical measurement time: 2.5 seconds.
NANOMETRICS 210 Mask&Wafer Inspection Equipment是一種革命性的自動化解決方案,用於審查半導體和其他微電子器件制造工藝的進展。210憑借其業界領先的光學設備、自動運動舞臺和直觀的軟件,為用戶提供了令人難以置信的產品詳細圖片,有助於確保準確性並促進快速決策。NANOMETRICS 210具有一套工具和檢查功能,所有這些功能均以NANOMETRICS領先、高度精確的光學系統為後盾。該系統可以快速檢測和測量掩模或晶片特征的微小變化,如圖案大小和形狀、線寬和間距,以及特征的缺失、存在和位置。此外,210還能夠檢查顏色、對比度、幾何連續性、配準精度等其他特征。借助NANOMETRICS 210廣泛的分辨率和校準選項,用戶可以對其晶片進行非常全面的查看。該單元還提供了一套強大的軟件,旨在簡化用戶的檢查過程。從項目開始到結束,210的專用用戶界面旨在實現直觀操作。使用自動化功能(如基板處理、熱穩定和自動掃描),用戶可以完全控制其項目。此外,NANOMETRICS 210軟件還提供了圖形和跟蹤功能等分析工具,使用戶可以準確評估其微電子設備的狀況。210旨在方便測試過程,同時提供前所未有的準確性和可靠性。其業界領先的光學和運動階段提供了高度精確的檢查功能,其直觀的軟件使用戶能夠從頭到尾高效地管理他們的項目。NANOMETRICS 210是微電子制造行業任何人都必須擁有的機器。
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