二手 NANOMETRICS 4150 #9124007 待售

ID: 9124007
晶圓大小: 6"-8"
優質的: 1994
Reflectivity & mapping system, 6"-8" Film thickness Single and multiple layer measurement programs Ability to select film constants Scan ranges and substrate types High speed auto-focus torret style objectives head MSPlan 5 MSPlan 10 MSPlan 50 Reflecting objective x15 Programmable mapping stage: Accuracy +/- 2 mm data analysis Motorized stage Stage accuracy: 2mm High resolution contour 3D Mapping Pulnix TMC-7 camera rapid measurement program development extensive data management SPC capabilities Mapping: Contour 2D & 3D 115VAC, 5A,50/60Hz 1994 vintage.
NANOMETRICS 4150是一種在半導體工業中廣泛使用的掩模和晶圓檢測設備。它有助於確保口罩和晶片滿足臨界公差並且沒有缺陷。該系統提供兩種檢查功能:靜態成像和動態成像。靜態成像用於識別總缺陷,如內置電荷、空隙、分層和各種汙染物。它通過檢測從掩模或晶片表面反射的光來實現此目的。動態成像用於識別靜態成像可能看不見的細小缺陷,如膠片或基板中的顆粒或異物。該單元配備了一系列先進的特點,以保證檢測的準確性。例如,它使用帶有伺服驅動器的高速X-Y舞臺,在相機上移動樣品,提供快速精確的定位。Sub Micron Step Profile Measurement(子微米步進輪廓測量)選項用於檢測樣品表面在0.1-100 μ m範圍內的曲率。此外,納米模式匹配工具用於測量兩個掩模之間或晶圓的兩個不同層之間的納米尺度差異。機器中使用的光學元件高度靈敏和精確,能夠檢測0.5-2 μ m之間的特征。背面成像選項還允許檢查外層結構,而特殊的探測器設置有助於優化信噪比。該工具的用戶界面旨在為快速檢查提供簡單直觀的操作。它的實時多窗口和拆分窗口技術允許同時檢查多個樣本,而其三維用戶界面則允許更好的視覺效果對缺陷進行分類。總體而言,4150資產提供了高級功能,可用於在掩模和晶片中進行準確、高效的缺陷檢查。這有助於用戶確保產品完整性並減少浪費,最終節省成本。
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