二手 NANOMETRICS 565 094 329 #9242380 待售

NANOMETRICS 565 094 329掩模和晶圓檢測設備是一種先進的光學工具,使光刻師和屈服工程師能夠在納米分辨率級別檢測缺陷。這使他們能夠發現半導體和其他先進微器件制造中的微觀結構缺陷，最終導致產量提高和上市時間加快。該系統設計用於任何先進芯片生產設施的潔凈室，利用與運行芯片制造過程相同的環境。在這些潔凈的房間內，部署了NANOMETRICS掩模和晶圓檢查裝置，以識別可能進入設計層間工作區域的任何異物碎片或「FOD」。除了FOD之外，機器還能夠檢測到設備內可能存在的表面缺陷、錯位和其他不規則性。這是通過使用工具的納米分辨率來逐層檢查設備以識別任何此類不規則性來實現的。資產使用的模式匹配算法能夠識別可能指示存在缺陷的模式。這也確保了所檢查特征的最高保真度。NANOMETRICS模型還利用濾鏡來查看正在檢查的樣本圖像。這些濾光片利用紫外線、可見光、紅外光和其他波長提供不同的分辨率水平，以確保缺陷檢測。該設備還包括一個高質量的圖像記錄界面，允許光刻工程師存儲圖像進行特寫檢查。這些圖像可以在軟件工程團隊的幾個成員之間存儲、召回或共享。除了能夠以納米分辨率檢測缺陷外,565 094 329還具有舞臺運動控制、自動測量功能、多個關註區域、直觀的用戶界面以及易於使用的硬件控制等其他幾個功能。NANOMETRICS 565 094 329掩模和晶圓檢測系統是半導體和其他微電子器件制造中質量檢測和缺陷檢測的首要工具。這個單位徹底改變了這個行業，並允許更高的收益率和更快的上市速度。