二手 NANOMETRICS 6100X #9157662 待售

NANOMETRICS 6100X Mask and Wafer Inspection設備是一種用於測試和檢查光掩模和晶圓的高性能和通用成像解決方案。它是一個無像差的成像系統，提供無與倫比的分辨率和準確性。它提供4k光學分辨率，在成像傳感器上有超過一萬億像素。NANOMETRICS 6100 X掩模和晶片檢查單元利用最先進的圖像處理技術實現了最高水平的圖像分析和模式識別。它為各種成像應用提供高景深和最佳動態範圍。它還具有先進的照明機器，包括明場、暗場、斜光和偏光的混合。這種照明工具可以與激光掃描計量學、低噪聲檢測器和高分辨率成像相結合，創造出理想、通用的成像解決方案。6100X Mask and Wafer Inspection資產為大視野中的高分辨率圖像提供了更好的焦點。具有圖像重復模式的能力，可用於檢查多層、多層次、復雜的模式結構。該模型還具有先進的自動學習功能，可以減少缺陷並提高圖像的準確性。6100 X Mask和Wafer Inspection設備具有直觀的用戶界面和強大的圖像分析功能。它可以定制為包括整個晶圓分析以及用於嚴格模式分析的統計過程控制（SPC）算法。這種高性能光學、成像和圖像處理技術的結合確保了盡可能高的產量和可靠的過程控制。NANOMETRICS 6100X Mask and Wafer Inspection System是一種影像解決方案,結合了直觀的用戶界面、先進的圖像處理和高性能的光學器件。它是半導體器件生產中光掩模和晶片表征和檢驗的理想裝置。該機可用於檢測和分析具有較高景深和較高分辨率圖像的復雜結構，同時為過程控制提供可靠準確的結果。