二手 NANOMETRICS 9010B #293680907 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
NANOMETRICS 9010B Mask&Wafer Inspection Equipment是用於檢查半導體Mask和Wafer的先進工具。該系統設計用於晶片級和介電/非介電掩模材料的關鍵缺陷識別和分析。9010B利用高分辨率成像技術、暗場照明、多波長鏡面反射儀、臨界尺寸測量和缺陷檢測能力。NANOMETRICS 9010B Mask&Wafer Inspection Machine的成像單元采用了5百萬像素數字顯微鏡，像素尺寸為1.67微米。這種顯微鏡能夠捕捉高分辨率的圖像，視野可達20毫米。該工具利用四種光路進行不同的照明，如亮場、暗場和多波長鏡面反射法。9010B Mask&Wafer Inspection Asset的暗場照明提供了出色的對比度，優化了缺陷和特征的成像。此外，該模型還利用多波長鏡面反射光源來識別過程引起的缺陷。反射儀的源波長可以從可見直到厘米波範圍調整，為缺陷檢測提供最高對比度。該設備能夠以微米分辨率進行臨界尺寸測量,非常適合設備開發、過程監控和半導體掩模檢查。集成的放大選項和多重圖像捕獲功能為產品測試和分析提供了更大的靈活性和準確性。NANOMETRICS 9010B Mask&Wafer Inspection System由直觀的用戶界面支持,在進行工作時易於使用和導航。此外,該設備還可以集成到各種第三方軟件解決方案和自動化測試機中,以簡化產品開發並最大限度地提高效率。最後，9010B面膜晶片檢測機經過專門設計，為半導體面膜和晶片提供了卓越的檢測能力。利用高分辨率成像技術、多波長鏡面反射法和暗場照明技術，在缺陷檢測和分析中實現最大對比度。該工具具有內置的關鍵尺寸測量功能和靈活的圖像捕獲功能,是開發和檢查半導體產品的理想解決方案。
還沒有評論