二手 NANOMETRICS Caliper Mosaic #9281789 待售
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NANOMETRICS Caliper Mosaic是一種自動化的掩模和晶圓檢查設備,旨在對低至45 nm的子結構上的特征尺寸、關鍵尺寸、輪廓、形狀和表面質量進行全面而準確的分析。該系統包括光束感應電阻（OBIR）和光束感應電流（OBIC）測量技術，以有效測量小型復雜微結構的臨界尺寸（CD）和器件地形。該機組的主要目標是提供快速、準確和可靠的半導體器件數據，以改善生產控制和降低成本。它配有一個獨特的轉盤，包含整個晶片，允許晶片映射和變形分析。該機器在高度自動化的掃描儀上運行，該掃描儀具有先進的光學成像工具，可以在掩模和晶圓上以高分辨率獲取特征圖像數據。這就產生了許多數據點，可以在廣泛的光線條件下進行分析。OBIR技術能夠對大馬士革、金屬、隔離和其他反射結構進行測量，OBIC技術旨在檢測使用OBIR可能無法檢測到的小幾何形狀。這種組合使得幾乎不可能錯過微觀組織缺陷。Caliper Mosaic資產具有直觀的用戶界面以及用於缺陷分析和數據報告的高級軟件功能。用戶界面允許操作員直接從數據日誌中輕松設置作業，並快速查看和確認測量結果。該軟件提供了跨大型布局框架測量的功能,而無需逐點測量或從測量軟件導出數據。模型使用定制的光學和濾波器來匹配底層半導體材料，具有處理非對稱結構和隱藏特征的能力。該設備還可用於同時執行多個檢查，包括側壁、溝槽、NMOS、PMOS和DF路由級別。在直觀的用戶界面和高級軟件功能之下,NANOMETRICS Caliper Mosaic系統具有強大的硬件,包括具有高動態範圍和更大視野的高級光學成像單元,以及潤濕機、多激光器和硬件自動化功能,以最大限度地提高吞吐量並減少手動工作量。總體而言,Caliper Mosaic工具是一種可靠而全面的自動掩模和晶片檢查資產,可快速準確地分析特征尺寸、關鍵尺寸、輪廓、形狀和表面質量。該模型適用於先進的半導體器件制造，實現了有效的工藝控制和成本降低。
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