二手 NANOMETRICS CD-50-2 #9123936 待售

ID: 9123936
優質的: 1999
CD control systems Measurement : (1) Nanometrics microscope with trinocular head Isolation stand Eyepieces: WHK 10X/20L Objectives: Ms plan 5X/0.13 Ms plan 20X/0.46 ULWD Ms plan 50X/0.55 X-Y-Z stage Computers (7) video camera Computer controlled scanning photometric microscope instrument Designed for measuring line widths Gaps and registration alignment Effective measuring range: 0.5 to 125.0 microns Stage X-Y movement: 4" x 4" Scan time of less than 5 secs Voltage: 115V Power: 50/60 Hz 1999 vintage.
NANOMETRICS CD-50-2是為掩模和晶圓制造商設計的高端掩模和晶圓檢驗系統。它旨在為口罩和晶片制造商提供行業中無與倫比的精確度和精確度。憑借其精確的光學器件、先進的圖像處理和納米精度,CD-50-2能夠為口罩和晶片制造商提供無與倫比的質量控制水平。NANOMETRICS CD-50-2利用五個發射不同波長光的激光模塊組成的陣列。這些激光器與獨特的光學系統相結合,該系統設計用於檢測納米尺度的掩模和晶圓缺陷。CD-50-2能夠準確地測量微觀缺陷,從單個掩模和晶片特征到原子,並看到地下缺陷。NANOMETRICS CD-50-2還具有強大的圖像處理算法,它可以檢測到甚至最難看到的缺陷。這種強大的算法能夠準確確定所有缺陷的位置和大小,無論是在掩模還是晶圓材料中。除了具有高精度光學和圖像處理能力外,CD-50-2還擁有一個全面的掩模和晶圓材料及規格數據庫。這使得NANOMETRICS CD-50-2能夠準確確定它被要求檢查的任何掩模或晶片的特性,並生成有關結果的詳細報告。CD-50-2是一個強大的除了面罩和晶圓檢查領域。其高精度的光學和圖像處理能力使其能夠檢測到甚至最小的缺陷,而其全面的掩模和晶圓材料數據庫使其能夠準確確定特性,並生成關於結果的詳細報告。NANOMETRICS CD-50-2極具成本效益,是尋求最優質產品的面膜和晶圓制造商的理想選擇。
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