二手 NANOMETRICS M-215 #9121885 待售

NANOMETRICS M-215掩模和晶片檢測設備設計用於在集成電路生產中使用之前,對標線、掩模和晶片進行快速、可靠的自動缺陷檢測。該系統提供準確、可重復的結果,使制造商能夠檢測到其口罩和晶片上最小的缺陷。該單元提供高分辨率成像，最高5.5微米的掃描分辨率和5微米的圖像放大倍率。檢測亞微米缺陷的能力確保了口罩和晶片的最高質量。M-215可以用6 x 6英寸的視場快速檢查大面積區域,實現高達0.08平方英寸/秒的掃描速率。這種速度是可能的，這要歸功於這臺機器的專利設計，它采用了一個光橋，使激光能夠快速地修復檢查區域，同時采取更少的步驟。除了世界級的成像功能外,NANOMETRICS M-215還提供高級缺陷分類功能,使其能夠快速準確地逐個識別缺陷。該工具采用動態閾值資產,使其能夠實時識別掩蔽和意外缺陷。該模型還包括一個功能強大的缺陷分析模塊，允許用戶進一步完善其缺陷分析結果。此模塊結合了復雜的軟件工具,使用戶能夠高效分析和分類缺陷數據。M-215設計為高度可靠,可免費操作。它包括一個溫度控制的光學單元，無論環境溫度如何，它都能保持最佳的成像溫度。其設備內校準可確保隨著時間的推移保持一致的速度和性能。NANOMETRICS M-215易於使用,它提供了一個圖形用戶界面,即使是新手用戶也可以快速配置和操作系統,而且很少進行培訓。它還包括一個搜索/過濾選項，可以快速隔離感興趣的區域，進一步提高用戶效率。最後,M-215是為長期可靠性而設計的,旨在滿足嚴格的質量要求,錯誤率為0.1%。它的長期可靠性確保了多年的無故障運行,使制造商能夠獲得最高的質量水平和最一致的結果。