二手 NANOMETRICS M6100A #9243269 待售

ID: 9243269
晶圓大小: 8"
Thickness measurement system, 8".
NANOMETRICS M6100A Mask&Wafer Inspection Equipment是一種多才多藝、功能強大的精密檢測工具,旨在滿足晶圓和Mask檢驗行業日益增長的需求。M6100A系統利用高分辨率激光成像裝置檢查晶圓和掩模圖樣,從而實現微米級分辨率。該機器能夠以經濟高效的方式檢測極小的缺陷,如電線斷裂和觸點缺失。NANOMETRICS M6100A工具具有多種可用選項和功能,包括光學變焦和增強的圖形功能。該資產旨在滿足各種掩碼和晶圓技術應用的需求,使用戶能夠快速準確地獲得盡可能高的圖像質量。該模型能夠使用多種材料操作,包括透明和不透明層,並支持直接和間接檢查。在M6100A的情況下,兩臺4百萬像素攝像頭安裝在一個大的、低調的、輕巧的不銹鋼框架後面,以確保平穩的操作和最大的設備精度。LED背光可增強圖像對比度,從而獲得更高的效果和可靠性,而使用壽命長的光學變焦鏡頭則可放大極小細節的視圖。除了這些特性外,NANOMETRICS M6100A系統還具有缺陷檢測、三維(3D)圖像生成等多種先進的離線功能。這樣就可以快速輕松地查看掩碼模式並檢測缺陷。該單元還能夠從多個來源插值數據,從而更容易識別和查找難以看到的缺陷。此外,M6100A臺機器使用智能模式識別算法提供自動缺陷檢測,以及在需要時手動輸入參數。自動缺陷檢測可確保在掩碼模式查看時性能一致,而手動參數條目允許用戶自定義搜索條件以識別更細微的缺陷。此工具還與各種軟件和CAD系統集成在一起,允許用戶直接訪問源文件中的數據,從而簡化檢查過程。NANOMETRICS M6100A Mask&Wafer Inspection Asset是一種先進的高分辨率檢查工具,能夠發現其他檢查系統會遺漏的Mask和Wafer上的缺陷。它為用戶提供了一種經濟高效的方法來獲得高質量的結果,同時提供了各種各樣的特性和功能,使其成為檢查和驗證掩模和晶片圖樣的理想選擇。
還沒有評論